Це важливий етап у стратегії скорочення залежності Пекіна від західних технологій і розвитку напівпровідникової галузі.
Державний концерн Shanghai Aishengna Electronic Technology Group узявся за масовий випуск власних занурювальних DUV-літографічних систем. Таку інформацію оприлюднило агентство Reuters, посилаючись на інсайдерське джерело.
До проєкту залучили експертів найкращих китайських центрів із розробки подібного устаткування.
Цей крок значно зменшує іноземний вплив.
Суть технології полягає у застосуванні спеціального прошарку води між кремнієвим кристалом та оптичною системою. Це дозволяє формувати надзвичайно дрібні структури. Подібні комплекси задіяні у випуску величезної кількості чипів, а шляхом багаторазової експозиції створюються ще складніші мікросхеми.
Новітні установки поки відстають від флагманських показників компанії ASML. Вони вимагають тривалих випробувань.
Проте новації слугуватимуть надійним тилом для місцевих підприємств на випадок жорсткіших західних санкцій.
Перші зразки вітчизняних машин планують передати гігантам на кшталт SMIC, Hua Hong Semiconductor та ChangXin Memory Technologies ще до кінця поточного року.
Нагадаємо, що Пекін узявся за створення власних літографів одразу після введення заборони США на надсучасні EUV-системи ASML та обмеження з боку Нідерландів на постачання DUV-апаратури.
Навіть попри запуск серії, головним завданням залишається досягнення стабільності роботи та високих темпів масового випуску.
Залишити коментар